제품 소개그래 핀 구리 포일

Cu 포일 장, 전자공학을 위한 ED 구리 포일에 12 mm 원형 그래 핀

Cu 포일 장, 전자공학을 위한 ED 구리 포일에 12 mm 원형 그래 핀

12 mm Circular Graphene on Cu Foil Sheet , ED Copper Foil for Electronics

제품 상세 정보:

원래 장소: 중국 상하이
브랜드 이름: Civen
인증: ISO/ROHS/CTI/SGS

결제 및 배송 조건:

최소 주문 수량: 1000kg
가격: Negotiation
포장 세부 사항: 수출을 위한 강한 나무로 되는 케이스 한 벌에서 포장하는
배달 시간: 당신의 예금을 받기 후에 15~20 일
지불 조건: L / C, T / T
공급 능력: 달 당 550MT
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상세 제품 설명
제품 이름: Cu (10 mm x 10 mm)에 단층 그래 핀 - 4개 단위를 포장하십시오 성장 방법: CVD 종합
외관 (색깔): 투명한 투명도: > 97%
적용: > 98% 그래 핀 층의 수: 1
입자 크기: 10까지 μm

Cu (12 mm 안내장)에 단층 그래 핀 - 4개 단위를 포장하십시오

 

 

이 제품은 구리 포일 기질에 성장된 단 하나 층 그래 핀에 이루어져 있습니다. 

Cu에 단층 그래 핀는 중대한 균질성을 가진 고품질 제품입니다. 그것의 우수한 재산에게 감사는 연구 및 개발 부와 대학을 위한 제일 선택권의 한개입니다. 

 

그래 핀 필름

  • 성장 방법: CVD 종합
  • 외관 (색깔): 투명한
  • 투명도: > 97%
  • 외관 (모양): 필름
  • 적용: > 95%
  • 그래 핀 층의 수: 1
  • (이론) 간격: 0.345 nm
  • 알루미늄2O3에 FET 전자 기동성: 2000 cm2/Vs
  • SiO2/Si에 홀 전자 기동성: 4000 cm2/V
  • SiO2/Si에 장 저항: 450±40 Ohms/sq (1cm x1cm)
  • 입자 크기: 10까지 μm

 

기질 Cu 포일

  • 간격: 18 μm
  • 더 쉬운 밑바닥 층 제거를 위해 Pretreated: 구리의 뒷쪽에 단층 그래 핀는 부분적으로 밑바닥 층을 완전히 삭제하는 위하여 RIE가 이동의 앞에 필요한 처럼, 그러나, 그래서 추가 처리 완전하지 않게 제거됩니다

 

신청

가동 가능한 건전지, 전자공학, 우주 산업, MEMS 및 NEMS, Microactuators의 전도성 코팅, 연구

 

Cu 포일 장, 전자공학을 위한 ED 구리 포일에 12 mm 원형 그래 핀

연락처 세부 사항
Civen Metal Material(Shanghai) Co.,Ltd

담당자: Mr. Duearwin Moon

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